描述低强度激光的各种参数包括功率密度(mW/cm
2)、波长(nm)、频率(Hz)、辐照时间(s)、剂量(J/cm
2)、治疗方案(持续时间/间隔)等
[17]。临床上常用的低强度激光主要是波长600~1 000 nm、功率5~500 mW的红光或近红外光(near-infrared, NIR)
[3]。低强度激光存在明显的双相剂量效应, 低剂量具有刺激作用, 而高剂量则具有抑制作用
[18]。能量参数方面, 用于表面靶点的剂量范围为1~10 J/cm
2, 用于深部组织的剂量为10~50 J/cm
2[19]。若以脉冲模式调节频率(1~10 000 Hz)和占空比(10%~50%), 可进一步减少热积累并增强光化学响应
[20]。低强度激光光源主要包括氦氖激光(He-Ne, 632.8 nm)、砷化镓铝激光(GaAlAs, 660~980 nm)、砷化镓激光(GaAs, 904 nm)、钕掺杂钇铝石榴石激光(Nd: YAG, 532 nm/1 064 nm)、发光二极管激光(LED, 600~950 nm)等
[21]。国际安全标准将激光治疗设备归类为3B类激光(5~500 mW), 需符合国际电工委员会(International Electrotechnical Commission, IEC)制定的辐射安全规范(IEC 60825-1), 并遵循WHO关于非侵入式医疗器械的管理要求。